Odstępy docelowe vs. Wystąpienia na pętlę
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Espaciado objetivo vs.. Instancias por bucle

El patrón de relleno es una operación de patrón muy funcional.. Patrón de llenado con una distribución circular desde la esquina (En el caso de los recortes) de cuatro construidos -in. En el caso del estilo con ruedas, Puedes elegir entre dos opciones: 1. Espaciado objetivo – Definen el espacio de ángulo en los individuales..

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